Beispiele analoger Eigenschaften bzw. Reaktionen von Bor und Silicium sind:

• die geringe elektrische Leitfähigkeit der Elemente (Halbleiter), deren Härte und hohe Schmelztemperaturen
• die Bildung flüchtiger Fluoride, $\text{B}{\text{F}}_3$ und $\text{Si}{\text{F}}_4$, sowie deren Tendenz zur Bildung von Fluoroboraten, ${\left[\text{B}{\text{F}}_4\right]}^{-}$, bzw. Fluorosilicaten, ${\left[\text{Si}{\text{F}}_6\right]}^{2-}$
• die Bildung flüchtiger, leicht entzündlicher und hydrolysierbarer Wasserstoff-Verbindungen, z.B. Diboran, ${\text{B}}_2{\text{H}}_6$, und Monosilan, $\text{Si}{\text{H}}_4$
• der schwach saure Charakter der Hydroxo-Verbindungen $\text{B}{\left(\text{O}\text{H}\right)}_3$ und $\text{Si}{\left(\text{O}\text{H}\right)}_4$ (Borsäure, ${\text{H}}_3\text{B}{\text{O}}_3$, und Kieselsäure, ${\text{H}}_4\text{Si}{\text{O}}_4$) sowie deren Tendenz zur Kondensation zu höhermolekularen Säuren