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Vertiefung: Schrägbeziehung Bor/Silicium

Beispiele analoger Eigenschaften bzw. Reaktionen von Bor und Silicium sind:

  • die geringe elektrische Leitfähigkeit der Elemente (Halbleiter), deren Härte und hohe Schmelztemperaturen
  • die Bildung flüchtiger Fluoride, BF3 und SiF4, sowie deren Tendenz zur Bildung von Fluoroboraten, [BF4], bzw. Fluorosilicaten, [SiF6]2
  • die Bildung flüchtiger, leicht entzündlicher und hydrolysierbarer Wasserstoff-Verbindungen, z.B. Diboran, B2H6, und Monosilan, SiH4
  • der schwach saure Charakter der Hydroxo-Verbindungen B(OH)3 und Si(OH)4 (Borsäure, H3BO3, und Kieselsäure, H4SiO4) sowie deren Tendenz zur Kondensation zu höhermolekularen Säuren