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PhotoresistZoomA-Z

Photoresists sind lichtempfindliche, filmbildende Materialien, deren Löslichkeit sich durch Belichtung oder Bestrahlung ändert. Man unterscheidet zwischen positiven und negativen Photoresists. Während die positiven Photoresists unter dem Einfluss der Strahlung infolge von Abbauprozessen löslich werden, verfestigen sich die negativen durch strahlungsinduzierte Vernetzungsvorgänge.

Lerneinheiten, in denen der Begriff behandelt wird

Vernetzungsverfahren - "Vulkanisation" ohne SchwefelLevel 230 min.

ChemieMakromolekulare ChemiePolymere Netzwerke

Es werden verschiedene Methoden der Vernetzung beschrieben, die in Analogie zur Schwefelvulkanisation auch oft als "Vulkanisationsverfahren" beschrieben werden. Es handelt sich hier um Kaltvulkanisation von Kautschuken durch schwefelhaltige Verbindungen, die Vernetzung von Chloroprenkautschuken durch Zink- oder Magnesiumoxid und radikalische Vernetzungsreaktionen mithilfe von Peroxiden. Die Vulkanisation durch Strahlung wird am Beispiel der negativen Photoresists erklärt.